보유장비
Bio-mems CA-40TS
공동활용장비
| 명칭 | Mask aligner | 모델명 | CA-40TS |
|---|---|---|---|
| 사용용도 | 감광제가 코팅된 wafer에 자외선을 조하사여 패턴을 형성 | 제작사 | 신우시스템 |
| 장비담당자 | 안재훈 | 장비담당자 전화번호 | |
| 장비담당자 이메일 | 설치장소 | 생명공학연구센터 460호 BioMEMS 청정실 |
사용제한
| 활용범위 | Photolithography 공정 시 패턴이 형성된 E-mask에 감광제가 코팅된 wafer를 align하고 이를 자외선에 노출시켜 wafer에 패턴을 형성 | ||
|---|---|---|---|
| 직접이용여부 | 가능 | 시료준비 | 4 inch wafer (smaller size available) |
장비사용안내 및 설명
| 사용료 | 45,000원 ※ 사용료는 (사용단위 x 단가) + (시료비용 x 시료수) + 제반비용 + 기타비용이며 할인과 금액 조정이 있을 수 있습니다. ※ 실제 사용료는 접수 후 내부 심의를 거쳐서 확정됩니다. | |
|---|---|---|
| 사용방법 | 패턴이 형성된 E-mask에 감광제가 코팅된 wafer를 align하고 이를 자외선에 노출 | |
| 구성 및 기능 | UV light source (350 W), Mask alignment/exposure system with video backside alignment | |
| 장비설명 | Photolithography 공정 시 패턴이 형성된 E-mask에 감광제가 코팅된 wafer를 align하고 이를 자외선에 노출시켜 wafer에 패턴을 형성 | |
| 활용분야 | Silicon wafer 또는 기판에 음각 또는 양각의 패턴 형성 | |
