POSTECH Biotech Center
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보유장비

보유장비

Bio-mems CA-40TS

공동활용장비

CA-40TS
명칭 Mask aligner 모델명 CA-40TS
사용용도 감광제가 코팅된 wafer에 자외선을 조하사여 패턴을 형성 제작사 신우시스템
장비상태 장비담당자 안재훈
설치장소 생명공학연구센터 460호 BioMEMS 청정실

사용제한

활용범위 Photolithography 공정 시 패턴이 형성된 E-mask에 감광제가 코팅된 wafer를 align하고 이를 자외선에 노출시켜 wafer에 패턴을 형성
직접이용여부 가능 시료준비 4 inch wafer (smaller size available)

장비사용안내 및 설명

사용료 45,000원 ※ 사용료는 (사용단위 x 단가) + (시료비용 x 시료수) + 제반비용 + 기타비용이며 할인과 금액 조정이 있을 수 있습니다. ※ 실제 사용료는 접수 후 내부 심의를 거쳐서 확정됩니다.
사용방법 패턴이 형성된 E-mask에 감광제가 코팅된 wafer를 align하고 이를 자외선에 노출
구성 및 기능 UV light source (350 W), Mask alignment/exposure system with video backside alignment
장비설명 Photolithography 공정 시 패턴이 형성된 E-mask에 감광제가 코팅된 wafer를 align하고 이를 자외선에 노출시켜 wafer에 패턴을 형성
활용분야 Silicon wafer 또는 기판에 음각 또는 양각의 패턴 형성